特許
J-GLOBAL ID：200903090507329300
スクリーン印刷用マスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
折寄 武士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-044467
公開番号（公開出願番号）：特開平6-234202
出願日： 1993年02月08日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：
【要約】【目的】 高解像度の印刷パターンを得て微細線印刷の実現を図る。【構成】 現像液に難溶性でかつ粘弾性を有するメッシュ保持層9の上に導電性を有するメッシュ4をラミネートする。メッシュ4の網目内部および表面上にフォトレジスト10を配し、該フォトレジスト10の表面とメッシュ保持層9の裏面との両面から露光し、現像してフォトレジスト膜15を形成する。次いで、メッシュ4のフォトレジスト膜15で覆われていない表面に電鋳により電鋳金属薄膜3を形成する。【効果】 メッシュ保持層9によりフォトレジスト膜15の一部の浮きや剥がれを防止でき、両面露光によりメッシュ4の影となる部分への電鋳金属の回り込み現象が無くなり、垂直度の高いマスク断面形状を得ることができ、また高密度パターンの形成を可能とする。
請求項（抜粋）：
導電性を有するメッシュ4の裏面上に、フォトレジスト膜形成用の現像液に難溶性でかつ透光性および粘弾性を有するメッシュ保持層9を密着させる工程と、メッシュ4の網目内部および表面上にフォトレジスト10を配する工程と、フォトレジスト10の表面側とメッシュ保持層9の裏面側の両面に、同一の印刷パターンフィルム13・14を置いて、その両面から露光した後、現像して印刷パターンのフォトレジスト膜15を形成する工程と、メッシュ4のフォトレジスト膜15で覆われていない表面に電鋳により電鋳金属薄膜3を形成する工程と、メッシュ保持層9をメッシュ4から除去する工程とからなることを特徴とするスクリーン印刷用マスクの製造方法。
引用特許：
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