化学気相蒸着装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：笹島富二雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-285051
公開番号（公開出願番号）：特開平9-165684
出願日： 1996年10月28日
公開日（公表日）： 1997年06月24日
要約：

【要約】【課題】化学気相蒸着装置(CVD)において、蒸着膜の均一化を図る。【解決手段】複数のセル34-1,...34-Pを有したガス分配ヘッド34と、ガスを供給する複数のサブ供給パイプ16-1,...16-Nに連結されてコントロールユニット22により制御されるサーボメータリングバルブ32-1,...32-Nと、を備え、ウェーハW上の各ポイント部位に噴射するガス量をサーボメータリングバルブ32-1,...32-Nにより調節する。

請求項（抜粋）：

ヒータープレート(11)及びヒータープレート(11)上に載置されたウェーハ(W)を収納するチャンバ(10)と、該チャンバ(10)下面に連結された排気パイプ(14)及び真空ポンプ(15)と、を備え、前記ウェーハ表面に原料ガスを供給して原料ガスの化学反応により薄膜を形成する化学気相蒸着装置において、前記チャンバ(10)の外部上方側に配管され、ガスを供給するメイン供給パイプ(16)と、該メイン供給パイプ(16)に連結され、メイン供給パイプ(16)から供給されたガスを分配供給する複数のサブ供給パイプ(16-1、...16-n)を備えたマニホールド(19)と、前記各サブ供給パイプ(16-1、...16-n)の中間に夫々連結され、流入ガスの量を調節する複数のサーボメータリングバルブ(32-1、...32-n)と、前記各サブ供給パイプ(16-1,...16-n)に夫々嵌合され、チャンバ(10)内のウェーハ(W)上に供給ガスを噴射する複数のセルを備えたガス分配ヘッド(34)と、前記チャンバ(10)外部に備えられ、サーボメータリングバルブ(32-1,...32-n)を夫々制御し、ウェーハ(W)上面の各ポイント部位に噴射されるガス量を夫々調節するコントロールユニット(22)と、を備えて構成されたことを特徴とする化学気相蒸着装置。

引用特許：

審査官引用 (1件)

特開平3-281780

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