特許
J-GLOBAL ID:200903090529306886

含ケイ素化合物および含ケイ素ポリマーの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-318003
公開番号(公開出願番号):特開平11-158187
出願日: 1997年11月19日
公開日(公表日): 1999年06月15日
要約:
【要約】【課題】 含ケイ素化合物および含ケイ素ポリマーの製造方法を提供する。【解決手段】 金属化合物類を触媒として、?@シリル化合物とエチニル化合物より一般式(1)で表されるシリルアセチレン化合物、および?Aヒドロシリル化合物とジエチニル化合物より一般式(4)で表される繰り返し単位を有する含ケイ素ポリマーを製造する。
請求項(抜粋):
R4-m-SiHm(式中、mは4以下の正の整数であり、Rは炭素数1から30のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、フェニル基やナフチル基などの芳香族基でありハロゲン原子、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エーテル基などの置換基を含んでいてもよい。mが1または2であるときRは各々が同じでも異なっていてもよい。)で表されるシリル化合物とR1-C≡CH(式中、R1は水素原子または炭素数1から30のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、フェニル基やナフチル基などの芳香族基であり、ハロゲン原子、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エーテル基などの置換基を含んでいてもよい。)で表されるエチニル化合物を金属化合物類の存在下に反応させることを特徴とする一般式(1)(化1)【化1】(式中、mは4以下の正の整数であり、Rは炭素数1から30のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、フェニル基やナフチル基などの芳香族基でありハロゲン原子、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エーテル基などの置換基を含んでいてもよい。mが1または2であるときRは各々が同じでも異なっていてもよい。R1は水素原子または炭素数1から30のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、フェニル基やナフチル基などの芳香族基でありハロゲン原子、水酸基、アミノ基、カルボキシル基、エーテル基などの置換基を含んでいてもよい。iはm以下の正の整数である。)で表されるシリルアセチレン化合物の製造方法。
IPC (8件):
C07F 7/08 ,  B01J 23/20 ,  B01J 31/02 101 ,  B01J 31/02 102 ,  B01J 31/12 ,  C08G 77/08 ,  C08G 77/20 ,  C07B 61/00 300
FI (8件):
C07F 7/08 C ,  B01J 23/20 X ,  B01J 31/02 101 X ,  B01J 31/02 102 X ,  B01J 31/12 X ,  C08G 77/08 ,  C08G 77/20 ,  C07B 61/00 300

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