特許

J-GLOBAL ID：200903090537632393

金属パターンの形成方法

発明者： 岩垣 賢
出願人/特許権者： コニカミノルタホールディングス株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-223953
公開番号（公開出願番号）：特開2008-047793
出願日： 2006年08月21日
公開日（公表日）： 2008年02月28日
要約：

【課題】電磁波遮断性能に優れ、かつ高い透明性を有し、さらに生産性に優れた電磁波遮断材料の製造に適用する金属パターンの形成方法を提供する。【解決手段】支持体上に、金属塩をパターン状に印刷し、該金属塩を還元することによって金属パターンを形成することを特徴とする金属パターンの形成方法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

支持体上に、金属塩をパターン状に印刷し、該金属塩を還元することによって金属パターンを形成することを特徴とする金属パターンの形成方法。

IPC (5件)：

H05K 9/00 ,  B41M 5/00 ,  B41M 5/50 ,  B41M 5/52 ,  H05K 3/10

FI (5件)：

H05K9/00 V ,  B41M5/00 A ,  B41M5/00 B ,  B41M5/00 E ,  H05K3/10 D

Fターム (51件)：

2H186AA15 ,  2H186AA17 ,  2H186AB02 ,  2H186AB03 ,  2H186AB09 ,  2H186AB10 ,  2H186AB12 ,  2H186AB27 ,  2H186AB31 ,  2H186AB33 ,  2H186AB54 ,  2H186AB56 ,  2H186AB58 ,  2H186AB61 ,  2H186BA11 ,  2H186BA12 ,  2H186BB33X ,  2H186BB33Z ,  2H186BB34X ,  2H186BB48X ,  2H186BC01X ,  2H186BC52X ,  2H186BC56X ,  2H186DA09 ,  2H186FA06 ,  2H186FA14 ,  2H186FB07 ,  2H186FB10 ,  2H186FB18 ,  2H186FB19 ,  2H186FB27 ,  2H186FB29 ,  2H186FB30 ,  2H186FB31 ,  2H186FB48 ,  2H186FB50 ,  5E321BB23 ,  5E321BB41 ,  5E321GG05 ,  5E321GH01 ,  5E343AA17 ,  5E343AA18 ,  5E343AA23 ,  5E343AA26 ,  5E343AA34 ,  5E343BB25 ,  5E343BB72 ,  5E343DD12 ,  5E343DD72 ,  5E343FF05 ,  5E343GG08

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 国際公開第2004/7810号パンフレット
  
• 透光性電磁波シールド膜の製造方法及び透光性電磁波シールド膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-430085   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 透光性電磁波シールド膜およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-430096   出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (3件)

• 導電性パターン材料及び導電性パターンの形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-237004   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 導電回路基板及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-327009   出願人：信越化学工業株式会社
• 電磁波遮蔽体およびその製造方法、並びにディスプレイ用前面板
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-343561   出願人：日立マクセル株式会社