反射屈折投影光学系

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大森聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-051718
公開番号（公開出願番号）：特開平6-265789
出願日： 1993年03月12日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：

【要約】【目的】ビームスプリッターを用いること無く、且つ一括露光方式を取ることが出来る結像性能の優れた反射屈折投影光学系を提供する。【構成】物体面1上のパターンからの光が、第1収斂群G1 を経て、第1平面鏡M1 の周辺部で反射された後、第1凹面反射鏡M2 よりなる第2収斂群G2 に至り、第2収斂群G2 で反射された光が第1平面鏡M1 の開口内にそのパターンの第1中間像を結像する。この第1中間像からの光が、第3収斂群G3 を経て、第2平面鏡M3 の開口内にそのパターンの第2中間像を結像し、この第2中間像からの光が第2凹面反射鏡M4 よりなる第4収斂群G4 に至り、第4収斂群G4で反射された光が第2平面鏡M3 の周辺で反射され、この反射光が、第5収斂群G5 を経て像面2の表面にそのパターンの第3中間像を結像する。

請求項（抜粋）：

第1面上のパターンの像を第2面上に投影する光学系であって、前記第1面上のパターンの中間像を結像する第1部分結像光学系と、前記中間像の像を前記第2面上に再結像する第2部分結像光学系とを配置し、前記2つの部分結像光学系の少なくとも一方の部分結像光学系は、第1の領域の光を通過させて該第1の領域とは異なる第2の領域の光を反射すると共に前記第1の領域又は第2の領域に前記中間像が結像される選択光学系と、該選択光学系を介して導かれた光束を再び該選択光学系に戻す凹面反射鏡と、前記第1面と前記選択光学系との間又は前記選択光学系と前記第2面との間に配置された収斂群とを有することを特徴とする反射屈折投影光学系。

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-000407
特開平3-265812
特開昭63-178207

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