特許

J-GLOBAL ID：200903090556139916

フォトマスク材料、フォトマスク及びその製造方法

発明者： 高柳 丘
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (4件)： 中島 淳 ,  加藤 和詳 ,  西元 勝一 ,  福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-093640
公開番号（公開出願番号）：特開2004-302016
出願日： 2003年03月31日
公開日（公表日）： 2004年10月28日
要約：

【課題】解像度が高いフォトマスクを作製しうるフォトマスク材料を提供すること、該フォトマスク材料から作製されるフォトマスク及びその製造方法を提供すること。【解決手段】シランカップリング剤による処理を施した光透過性の基材の上に、i)架橋可能なアルカリ可溶性樹脂バインダー、ii)少なくとも1個の重合可能な不飽和結合を有するモノマー又はオリゴマー、iii)光重合開始剤、及びiv)カーボンブラックを含み、加熱により硬化可能な、膜厚1μm以下の遮光層形成層と、該遮光層形成層の上に形成された酸素遮断層とを有するフォトマスク材料、前記フォトマスク材料の遮光層形成層を、紫外レーザー光又は可視レーザー光により酸素遮断層の上から露光した後アルカリ現像し、次に加熱硬化処理を行なうフォトマスクの製造方法、及び該製造方法から作製されるフォトマスク。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

シランカップリング剤による処理を施した光透過性の基材の上に、i)架橋可能なアルカリ可溶性樹脂バインダー、ii)少なくとも1個の重合可能な不飽和結合を有するモノマー又はオリゴマー、iii)光重合開始剤、及びiv)カーボンブラックを含み、加熱により硬化可能な、膜厚1μm以下の遮光層形成層と、該遮光層形成層の上に形成された酸素遮断層とを有するフォトマスク材料。

IPC (6件)：

G03F1/08 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  H01L21/027

FI (7件)：

G03F1/08 L ,  G03F1/08 A ,  G03F7/004 505 ,  G03F7/038 501 ,  G03F7/09 501 ,  G03F7/11 501 ,  H01L21/30 502P

Fターム (17件)：

2H025AA02 ,  2H025AA13 ,  2H025AA14 ,  2H025AB08 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BC53 ,  2H025BC85 ,  2H025CA00 ,  2H025CC11 ,  2H025DA04 ,  2H025DA19 ,  2H095BC05 ,  2H095BC27