特許
J-GLOBAL ID：200903090566020879
光ファイバ母材製造用の溶液含浸・乾燥・酸化装置およびこの装置を用いた光ファイバ母材の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 清
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-135313
公開番号（公開出願番号）：特開2002-326832
出願日： 2001年05月02日
公開日（公表日）： 2002年11月12日
要約：
【要約】【課題】 不純物が少なく、所望の元素を添加した光ファイバ母材を製造する。【解決手段】 石英管2を立設保持する保持部10と、保持部10に立設保持された石英管2の上端側に設けられる排気系7と、石英管2の下端側に設けられる溶液供給系3、溶液排出系4,ガス供給系6と、石英管2の周囲の一部を覆う加熱手段8と、加熱手段8上下方向に移動する移動手段15を設ける。石英管2の内壁に光ファイバ形成用の多孔質スス体を堆積させた後に、石英管2を図1の装置にセットし、石英管2内に溶液を供給して多孔質スス体1に含浸させた後、溶液を排出して多孔質スス体1を乾燥させ、しかる後に、ガス供給系6から石英管2内にガスを供給して加熱手段8により石英管2を加熱することによって多孔質スス体1を酸化させるといった前記多孔質スス体1への溶液含浸から多孔質スス体1の酸化までの工程を、連続的に1回以上反復して行なう。
請求項（抜粋）：
石英管を立設保持する保持部と、該保持部に立設保持された石英管の上端側に設けられる排気系と、前記石英管の下端側に設けられる溶液供給系および溶液排出系およびガス供給系と、前記石英管の周囲の少なくとも一部を覆う態様で設けられる加熱手段とを有することを特徴とする光ファイバ母材製造用の溶液含浸・乾燥・酸化装置。
IPC (2件)：
C03B 37/014
, G02B 6/00 356
C03B 37/014 A
, G02B 6/00 356 A
