特許
J-GLOBAL ID：200903090579868893
光走査装置における光源装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-036501
公開番号（公開出願番号）：特開平5-236216
出願日： 1992年02月24日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：
【要約】【目的】半導体レーザーアレイを光源として用いる光走査装置において、光スポット形状整形用アパーチュアによる光遮断率を小さくして、光利用効率の良い光走査を実現する。【構成】複数のレーザー発光部L1,L2,..,Li,..をアレイ配列してなるモノリシックな半導体レーザーアレイ10のアレイ方向(X方向)を主走査対応方向に対して微小角傾けて配置し、アレイ方向に長いアパーチュアを介して取り出された各レーザー発光部Liからのレーザー光束を、偏向反射面を有する光偏向手段により同時に偏向させて被走査面を複数ラスター分同時に光走査する光走査装置において、半導体レーザーアレイ10と、アパーチュアよりも半導体レーザーアレイ10側において半導体レーザーアレイ10の各レーザー発光部Liからのレーザー光束を入射されるアナモフィックな光学系20とを有し、アナモフィックな光学系20が、アレイ方向に0以上のパワーを持ち、上記アレイ方向と光束光軸方向とに直交する方向において、上記アレイ方向よりも強い正のパワーを持つ。
請求項（抜粋）：
複数のレーザー発光部をアレイ配列してなるモノリシックな半導体レーザーアレイのアレイ方向を主走査対応方向に対して微小角傾けて配置し、上記アレイ方向に長いアパーチュアを介して取り出された各レーザー発光部からのレーザー光束を、偏向反射面を有する光偏向手段により同時に偏向させて被走査面を複数ラスター分同時に光走査する光走査装置において、半導体レーザーアレイと、上記アパーチュアよりも半導体レーザーアレイ側において半導体レーザーアレイの各レーザー発光部からのレーザー光束を入射されるアナモフィックな光学系とを有し、上記アナモフィックな光学系が、アレイ方向に0以上のパワーを持ち、上記アレイ方向と光束光軸方向とに直交する方向において、上記アレイ方向よりも強い正のパワーを持つことを特徴とする光源装置。
IPC (3件)：
H04N 1/04 104
, G02B 26/10
, H04N 1/036
