特許

J-GLOBAL ID：200903090580999802

マスクパタン設計方法

発明者： 横山 勝利
出願人/特許権者： 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社
代理人 (1件)： 後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-039774
公開番号（公開出願番号）：特開平5-235168
出願日： 1992年02月26日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：

【要約】【目的】 自動マスクパタン設計に於いて、特性のよいマスクパタンを得ると共に、自動マスクパタン設計の利点である短TAT,小工数を実現する。【構成】 (1)特定の信号配線を認識される工程。(2)(1)で認識した信号配線に近接して、他の信号配線が配線される事を排除して配線経路を決定する工程。(3)(2)で排除された領域に、信号配線を配線する。(4)(3)の配線に固定電位を供給する工程。を含むICマスクパタン設計方法。

請求項（抜粋）：

マスクパタン設計方法であって、所定の信号配線を認識させる工程と、認識した信号配線に近接して他の配線が配線される事を排除して配線経路を決定する工程と、前記排除された領域に固定電位を有する信号配線を配線する工程とを有することを特徴とするマスクパタン設計方法。

IPC (4件)：

H01L 21/82 ,  G03F 1/08 ,  G06F 15/60 370 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/82 L ,  H01L 21/30 301 P