特許
J-GLOBAL ID：200903090588263007

廃液処理方法及び装置

発明者：
山村 健治

山村 健治 について


出願人/特許権者：
住友重機械工業株式会社

住友重機械工業株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-044575
公開番号（公開出願番号）：特開2001-232388
出願日： 2000年02月22日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
要約：
【要約】【課題】 硫酸根を含む有機廃液の嫌気性処理において、硫化物によるメタン生成の阻害を十分に回避でき、しかも、処理コストの増大を抑制できる有機廃液の処理方法及び装置を提供する。【解決手段】 本発明による処理装置100を用いた廃液処理方法は、酸生成槽3において有機廃液1中の有機物を有機物分解菌体で分解し、且つ、硫酸根を硫酸還元菌体により酸化し、生成した硫化水素及び二酸化炭素を有機廃液1から分離して光培養槽6に送気する。光培養槽6では硫黄細菌(光合成菌体体)によって硫化水素及び二酸化炭素を資化させ、硫化水素を酸化して処理する。一方、硫化水素が分離除去された有機廃液15をメタン生成槽16でメタン発酵処理し、メタン含有量の多いガス成分を生成させ、このガス成分をガス貯槽19に回収して貯留する。
請求項（抜粋）：
有機物及び硫酸根を含む有機廃液を嫌気性処理する廃液処理方法であって、酸生成菌体によって前記有機物を分解して酸化態炭素を生成せしめる第1の生物処理工程と、硫酸還元菌体によって前記硫酸根を還元して還元態硫黄を生成せしめる第2の生物処理工程と、前記有機廃液から前記酸化態炭素及び前記還元態硫黄を含むガス成分を分離し、酸化態炭素及び還元態硫黄を用いて光合成を行うことが可能な光合成菌体を含む溶液に該ガス成分を導入するガス導入工程と、前記ガス成分が分離された前記有機廃液に対し、有機物還元菌体によって還元態炭素を生成せしめる第3の生物処理工程と、前記光合成菌体を含む溶液に光を照射して前記光合成菌体に光合成反応を行わせ、該光合成反応によって還元態硫黄を酸化して酸化態硫黄を生成せしめることにより、前記ガス成分から該還元態硫黄の少なくとも一部を除去する第4の生物処理工程と、を備えることを特徴とする廃液処理方法。
IPC (2件)：
C02F 3/28 ,  C02F 3/34
FI (4件)：
C02F 3/28 A ,  C02F 3/28 B ,  C02F 3/34 A ,  C02F 3/34 Z
Fターム (5件)：
4D040AA02 ,  4D040AA26 ,  4D040DD03 ,  4D040DD04 ,  4D040DD16
引用特許：
審査官引用 (8件)
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