特許
J-GLOBAL ID:200903090595061932
基板処理装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-193903
公開番号(公開出願番号):特開2002-001247
出願日: 2000年06月28日
公開日(公表日): 2002年01月08日
要約:
【要約】【課題】 基板に形成された素子を破壊することなく、処理液中にキャビテーションや気泡またはラジカルを多量に発生させることができて、基板の処理効率を向上させることができる基板処理装置を提供する。【解決手段】そこで本発明では、処理槽1の上方から処理槽1内を見た平面視で第1開口12bが第2緩衝部材13の本体に遮られるとともに、第2開口13bが第1緩衝部材12の本体に遮られるように配置された第1緩衝部材12および第2緩衝部材13によって、超音波振動発生器7から伝播水9および底壁11を介して純水8に付与され基板Wに作用する超音波振動の衝撃力を低減させる。また、高さ位置B付近で発生した多量のキャビテーションや気泡およびラジカルを含む純水8の上昇流を第2開口13bおよび第1開口12bを介して基板Wに到達させる。
請求項(抜粋):
基板が浸漬された処理液に超音波振動を付与しつつ基板を処理する基板処理装置において、処理液を貯留する処理槽と、処理槽に貯留された処理液中で基板を支持する支持手段と、超音波振動を前記処理槽の底壁に照射して、前記底壁を介して処理液に超音波振動を付与する超音波振動発生手段と、処理槽内に貯留された処理液中に底壁付近から処理槽上部に向かう上昇流を形成する上昇流形成手段と、前記支持手段によって支持された基板と前記底壁との間の処理液中に配置され、基板に作用する超音波振動の衝撃力を低減させるとともに、上昇流形成手段によって形成された上昇流を通過させる開口を有する緩衝手段と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件):
B08B 3/12
, B08B 3/02
, B08B 3/08
FI (3件):
B08B 3/12 A
, B08B 3/02 F
, B08B 3/08 Z
Fターム (6件):
3B201AA03
, 3B201AB42
, 3B201BB02
, 3B201BB83
, 3B201BB87
, 3B201BB93
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