特許

J-GLOBAL ID：200903090601698867

パターン検査方法及び装置

発明者： 増田 聡
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-324548
公開番号（公開出願番号）：特開平6-175353
出願日： 1992年12月04日
公開日（公表日）： 1994年06月24日
要約：

【要約】【目的】ハーフトーン型位相シフトマスクのパターンの欠陥を高感度に検出でき、しかもマスク上での検出感度が一様な検査方法および装置を提供することである。【構成】遮光パターンを形成する半透明膜と完全遮光膜それぞれの図形データ11と12を元にハーフトーン型位相シフトマスク19からの透過光を受光するラインセンサ21の画素に対応するパターンデータをパターンデータ発生回路16で生成する。また、図形データをマトリクス状メモリ13に展開してパターン線幅を線幅判定回路14で判定し、線幅が所定値以下の部分のパターンデータを半透明膜の光透過率に応じて補正する。そして、補正されたパターンデータとラインセンサの出力信号を比較回路22で比較してパターン検査を行う。

請求項（抜粋）：

ハーフトーン型位相シフトマスクのパターンの描画に使用した図形データからパターンデータを作成し、パターンが半透明膜により構成されている部分ではその半透明膜の光透過率に応じて上記パターンデータを補正しながら位相シフトマスクからの透過光の強さとパターンデータとの比較により位相シフトマスクのパターンを検査することを特徴とするパターン検査方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027