位置合わせ方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：立石篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-170288
公開番号（公開出願番号）：特開平8-339959
出願日： 1995年06月13日
公開日（公表日）： 1996年12月24日
要約：

【要約】【目的】マスク側マーク及び基板側マークを確実に識別することができ、しかも高精度にマスクと基板を位置合わせする。【構成】基板ステージ22への基板16の搭載に先だって検出系60A、60Bの検出範囲外にマーク13A、13Bが位置するようにマスクステージ20が移動されるので、ステージ22へ基板16が搭載され検出系60A、60Bによりマーク17A、17Bを検出する際にマーク17A、17Bがマークと重なって両者の識別ができなくなるという不都合は生じえない。従って、検出系60A,60Bの検出範囲を狭く設定して、狭い範囲を高倍率で撮像することができ、高精度なマーク位置の検出が可能となる。

請求項（抜粋）：

マスクステージ上に載置されたマスクに形成された第1マークを検出すると同時に基板ステージ上に搭載された基板上に前記第1マークに対応して形成された第2マークを投影光学系を介して検出可能な検出系を備えた投影露光装置に用いられる、前記マスクと前記基板との位置合わせ方法であって、前記基板ステージへの前記基板の搭載前に、前記マスクステージ上に載置された前記マスクに形成された少なくとも2箇所の前記第1マークの位置を前記検出系を用いて検出する第1工程と;前記基板の前記基板ステージ上への搭載に先立って前記第1マークが前記検出系の検出範囲外に位置するように前記マスクステージを移動させる第2工程と;しかる後、前記基板ステージ上に搭載された前記基板上に前記第1工程で検出された前記第1マークに対応して形成された少なくとも2箇所の前記第2マークの位置を前記検出系を用いて前記投影光学系を介して検出する第3工程と;前記第1、第3工程の検出結果に基づいて前記マスクと前記基板とを位置決めする第4工程とを含む位置合わせ方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G01B 11/00 , G02F 1/13 101 , G03F 9/00

FI (6件)：

H01L 21/30 525 F , G01B 11/00 C , G02F 1/13 101 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 521 , H01L 21/30 525 X

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