特許

J-GLOBAL ID：200903090617043801

光感応性酸発生剤およびそれらを含むフォトレジスト

発明者： ジェームズ エフ キャメロン ,  トーマス エム ジドウスキー
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (1件)： 佐伯 憲生
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-545309
公開番号（公開出願番号）：特表2004-531749
出願日： 2001年11月03日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：

本発明は、新規な光感応性酸発生剤化合物(PAGs)およびそれらの化合物を含むフォトレジスト組成物に関する。詳しくは、本発明は、放射線で露光されることによりα, α-ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる光感応性酸発生剤化合物に関する。このようなPAGsを含むポジ型およびネガ型の化学的に増幅されたレジストが特に好まれている。本発明はまたこのようなPAGsおよびα, α-ジフルオロアルキルスルホン酸の合成方法も含む。

請求項（抜粋）：

組成物の露光されたコーティング層を現像させるのに充分な量で樹脂バインダおよび光感応性酸発生剤化合物を含み、その光感応性酸発生剤が放射線で露光されることによりα, α-ジフルオロアルキルスルホン酸を発生させる、フォトレジスト組成物。

IPC (9件)：

G03F7/004 ,  C07C17/263 ,  C07C22/08 ,  C07C303/20 ,  C07C309/24 ,  C09K3/00 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (9件)：

G03F7/004 503A ,  C07C17/263 ,  C07C22/08 ,  C07C303/20 ,  C07C309/24 ,  C09K3/00 K ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (19件)：

2H025AA02 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CC17 ,  4H006AA02 ,  4H006AC22 ,  4H006AC61 ,  4H006BA53 ,  4H006BE63 ,  4H039CA21 ,  4H039CD40 ,  4H039CD90