特許
J-GLOBAL ID：200903090632637351
金属酸化物微細構造体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-100103
公開番号（公開出願番号）：特開2005-041766
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2005年02月17日
要約：
【課題】従来の金属酸化物微細構造体の製造方法として原料に層状チタン酸塩、具体的にはチタン酸セシウムを用いる方法があるが、高価なアルカリ金属であるセシウムを用いることや、800〜1000°Cで数十時間焼成する必要があるなど、高コストになる課題があった。また、不純物(セシウム)が残存することが報告されている。【解決手段】巻物状の層状構造を有する金属酸化物中空ファイバの層間に、プロトンを挿入することにより、層間を拡大させる工程を有することを特徴とする金属酸化物微細構造体の製造方法を提供する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
巻物状の層状構造を有する金属酸化物中空ファイバの層間に、プロトンを挿入することにより層間を拡大させる工程を有することを特徴とする金属酸化物微細構造体の製造方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (7件)：
4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CC01
, 4G047CC02
, 4G047CC03
, 4G047CD04
, 4G047CD07
