特許
J-GLOBAL ID:200903090637191750

情報記録ディスク基板用結晶化ガラス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 横倉 康男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-230479
公開番号(公開出願番号):特開平10-158034
出願日: 1997年08月13日
公開日(公表日): 1998年06月16日
要約:
【要約】【課題】 溶融性、成形性、機械的強度及び化学的耐久性に優れ、析出する結晶が微細であり、研磨後の表面粗度が10Å以下の表面平滑な情報記録ディスク基板用結晶化ガラスを提供すること。【解決手段】 酸化物換算の重量基準でSiO2 55〜85%、Li2 O 5〜20%、K2 O+Na2 O 0〜10%、MgO 0〜10%、CaO 0〜20%、SrO 0〜10%、BaO 0〜10%、ZnO 0〜10%、Al2O3 0〜10%、B2 O3 0〜15%、P2 O5 0〜6%、TiO20〜3%、ZrO2 0〜3%、SnO2 0〜3%及びAs2 O3 +Sb2 O3 0〜1%並びにフッ素(F)0.1〜10重量%及び塩素(Cl)0.1〜20重量%からなる各成分を含有するガラス原料を溶融、成形、ガラス化した後、結晶化処理して得られたものであり、かつ結晶化処理後の塩素の量が少なくとも0.05重量%であることを特徴とする情報記録ディスク基板用結晶化ガラス。
請求項(抜粋):
酸化物換算の重量基準でSiO2 55〜85%、Li2 O5〜20%、K2 O+Na2 O 0〜10%、MgO 0〜10%、CaO 0〜20%、SrO 0〜10%、BaO 0〜10%、ZnO 0〜10%、Al2 O3 0〜10%、B2 O3 0〜15%、P2 O5 0〜6%、TiO20〜3%、ZrO2 0〜3%、SnO2 0〜3%及びAs2 O3 +Sb2O3 0〜1%並びにフッ素(F)0.1〜10重量%及び塩素(Cl)0.1〜20重量%からなる各成分を含有するガラス原料を溶融、成形、ガラス化した後、結晶化処理して得られたものであり、かつ結晶化処理後の塩素の量が少なくとも0.05重量%であることを特徴とする情報記録ディスク基板用結晶化ガラス。
IPC (9件):
C03C 10/14 ,  C03C 3/112 ,  C03C 3/118 ,  G11B 5/62 ,  G11B 5/84 ,  G11B 7/24 526 ,  G11B 7/26 521 ,  G11B 11/10 511 ,  G11B 11/10 541
FI (9件):
C03C 10/14 ,  C03C 3/112 ,  C03C 3/118 ,  G11B 5/62 ,  G11B 5/84 Z ,  G11B 7/24 526 V ,  G11B 7/26 521 ,  G11B 11/10 511 A ,  G11B 11/10 541 D
引用特許:
審査官引用 (2件)

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