特許

J-GLOBAL ID：200903090650600660

アライメントマーク装置

発明者： 青木 敏彦
出願人/特許権者： 株式会社ミツトヨ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-367237
公開番号（公開出願番号）：特開平11-191530
出願日： 1997年12月25日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：

【要約】【課題】 目視によるアライメント操作に熟練を要さず、オペレータの視覚的固体差による誤差が少なく、パターンの線太りや線細りの影響が少ないアライメントマーク装置を得るにある。【解決手段】 光学的に組み合わせて用いられるウエハ側アライメントマークA及びマスク側アライメントマークBにおいて、これらのウエハ側アライメントマークA及びマスク側アライメントマークBの何れか一方を構成しかつ行方向、列方向、対角方向に一定の間隔をおきマトリックス状に配列される多数の第1多角形パターンエレメントからなる第1光不透過パターンa1 と、この第1光不透過パターンa1 に重ねたとき前記第1多角形パターンエレメント間に介在して同第1多角形パターンエレメントとの間に市松模様を形成する第2多角形パターンエレメントからなる第2光不透過パターンb1 とを備えるアライメントマーク装置。

請求項（抜粋）：

光学的に組み合わせて用いられるウエハ側アライメントマーク及びマスク側アライメントマークにおいて、これらのウエハ側アライメントマーク及びマスク側アライメントマークの何れか一方を構成しかつ行方向、列方向、対角方向に一定の間隔をおきマトリックス状に配列される多数の第1多角形パターンエレメントからなる第1光不透過パターンと、この第1光不透過パターンに重ねたとき前記第1多角形パターンエレメント間に介在して同第1多角形パターンエレメントとの間に市松模様を形成する第2多角形パターンエレメントからなる第2光不透過パターンとを備えることを特徴とするアライメントマーク装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/02

FI (3件)：

H01L 21/30 502 M ,  H01L 21/02 A ,  H01L 21/30 522 Z

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭63-260045
  
• 特開平2-150013
  
• 特開平2-246313
  
• 特開平3-182753