特許

J-GLOBAL ID：200903090652445890

超純水の製造方法及び装置

発明者： 小泉 求
出願人/特許権者： 栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 重野 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-209470
公開番号（公開出願番号）：特開2001-029752
出願日： 1999年07月23日
公開日（公表日）： 2001年02月06日
要約：

【要約】【課題】 系内の菌の増殖を抑制して、RO膜装置のスライム汚染を防止し、高純度の水を長期間連続して安定に得る。【解決手段】 原水をpH4〜6に調整した後、第1段目の逆浸透膜装置2と脱酸素装置3に通液し、その後pHを7〜8に調整した後、電気脱イオン装置4に通液し、得られた脱イオン水を第2段目の逆浸透膜装置5に通液する超純水の製造方法。

請求項（抜粋）：

原水をpH4〜6に調整した後、第1段目の逆浸透膜装置と脱酸素装置に通液し、その後pHを7〜8に調整した後、電気脱イオン装置に通液し、得られた脱イオン水を第2段目の逆浸透膜装置に通液することを特徴とする超純水の製造方法。

IPC (9件)：

B01D 61/58 ,  B01D 61/48 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/469 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 504

FI (12件)：

B01D 61/58 ,  B01D 61/48 ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/44 J ,  C02F 9/00 502 F ,  C02F 9/00 502 Z ,  C02F 9/00 502 L ,  C02F 9/00 502 K ,  C02F 9/00 503 B ,  C02F 9/00 504 B ,  C02F 9/00 504 E ,  C02F 1/46 103

Fターム (33件)：

4D006GA03 ,  4D006KB01 ,  4D006KB17 ,  4D006MA13 ,  4D006MA14 ,  4D006MC21 ,  4D006MC54 ,  4D006MC62 ,  4D006PA01 ,  4D006PB02 ,  4D006PB05 ,  4D006PB23 ,  4D006PC02 ,  4D037AA03 ,  4D037AB11 ,  4D037BA23 ,  4D037BB05 ,  4D037BB07 ,  4D037CA03 ,  4D037CA04 ,  4D037CA14 ,  4D061DA02 ,  4D061DB02 ,  4D061EA09 ,  4D061EB01 ,  4D061EB13 ,  4D061EB19 ,  4D061EB37 ,  4D061FA03 ,  4D061FA09 ,  4D061FA11 ,  4D061GA30 ,  4D061GC01

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 純水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-117390   出願人：栗田工業株式会社
• 純水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-111556   出願人：栗田工業株式会社
• 特開平2-040221
  
• 特開平3-026390
  
• 特開平4-100589