特許
J-GLOBAL ID：200903090656992284
同軸型プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
下田 容一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-268845
公開番号（公開出願番号）：特開平5-090222
出願日： 1991年09月20日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：
【要約】【構成】 縦長の筒状チャンバー2の内外に筒状の内部電極5及び外部電極6を配置し、この外部電極6の外方に少なくとも高さ方向に2分割されたヒータ7,8を配置し、これらヒータ7,8に夫々温度制御用のコントローラ9,11を付設してなる同軸型プラズマ処理装置1。【効果】 プレヒータを上下に分割することで上部ヒータ7を先行してOFFすることが出来、筒状チャンバー2の高さ方向の温度差の拡大を抑制することが出来るのでウェハーWのアッシングレートの均一性は改善される。
請求項（抜粋）：
縦長の筒状チャンバーの内外に筒状の内部電極及び外部電極を配置し、この外部電極の外方に少なくとも高さ方向に2分割されたヒータを配置し、これらヒータに夫々温度制御用のコントローラを付設してなる同軸型プラズマ処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, G03F 7/42
, H01L 21/027
