特許

J-GLOBAL ID：200903090662765036

スパッタ装置

発明者： 江島 正毅 ,  吉田 郁男 ,  福田 邦夫 ,  山村 和市 ,  阪口 新
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-069214
公開番号（公開出願番号）：特開平5-230649
出願日： 1992年02月18日
公開日（公表日）： 1993年09月07日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】プレーナマグネトロン型スパッタ装置の電極において、その背面に複数個の同心円筒状電磁石を配置することを特徴とし、該複数個の同心円筒状電磁石において、各電磁石に印加する直流および交流電流を個別に設けた外部電源により制御することを特徴とするスパッタ装置。【効果】本発明によれば、スパッタ放電後ターゲットエロージョン分布を最適化し、それによりターゲットの使用効率を高め、膜組成の均質化、膜厚分布の均質化が図れる。

請求項（抜粋）：

プレーナマグネトロン型スパッタ装置の電極において、その背面に複数個の同心円筒状電磁石を配置することを特徴とするスパッタ装置。

IPC (4件)：

C23C 14/35 ,  C23C 14/44 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/285