特許

J-GLOBAL ID：200903090667878041

薄膜型NDフィルタおよびその製造方法

発明者： 下田 和人
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 藤島 洋一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-153731
公開番号（公開出願番号）：特開2002-350610
出願日： 2001年05月23日
公開日（公表日）： 2002年12月04日
要約：

【要約】【課題】 再現性良く平坦な透過率分光特性が得られると共に量産性に優れた薄膜型NDフィルタ、およびその製造方法を提供する。【解決手段】 薄膜型NDフィルタ30は、高分子フィルムの基板1上に密着層2を介して光学多層体5が設けられたものである。光学多層体5はNb層3と誘電体層4が交互に各2層、合計4層積層されたものであり、Nb層3は形成時の膜厚制御が比較的容易であるために、透過率のばらつきが低減したものとなる。このNDフィルタ30は、2つの蒸着源を備えた成膜装置によるロールコーティングで作製することができる。蒸着源はそれぞれ、Nb層3および誘電体層4を形成するためのものである。送りロールと巻取ロールを回転させながら各蒸着源のスパッタリングを行うことによって、基板1上にNb層3,誘電体層4が連続的に形成される。

請求項（抜粋）：

基板と、この基板上に、ニオブ(Nb)からなる層を含んで形成される光学多層体とを備えたことを特徴とする薄膜型NDフィルタ。

IPC (3件)：

G02B 5/00 ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 5/28

FI (3件)：

G02B 5/00 A ,  B32B 7/02 103 ,  G02B 5/28

Fターム (23件)：

2H042AA06 ,  2H042AA08 ,  2H048GA07 ,  2H048GA33 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  4F100AA20D ,  4F100AA20E ,  4F100AB01C ,  4F100AB01E ,  4F100AB11B ,  4F100AK42A ,  4F100AT00A ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10E ,  4F100EH66 ,  4F100GB48 ,  4F100JA20A ,  4F100JL02 ,  4F100JN08 ,  4F100YY00A