静電吸着装置及びその方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-195058
公開番号（公開出願番号）：特開平6-045284
出願日： 1992年07月22日
公開日（公表日）： 1994年02月18日
要約：

【要約】【目的】プラズマにより処理されるウエハを支持する静電吸着装置において、ウエハを多段エッチングでスル-プットよく処理できる静電吸着装置およびその方法を提供することにある。【構成】タングステン電極10上に、SiO2膜11を表面に気相成長したSiC焼結体12をろう材13により接合して静電吸着電極14を構成する。そして、プロセス変更時にプラズマ6が消滅した際には静電吸着電極14の両端が開放状態に、最終のプロセスが終了した際には接地状態になるようにスイッチ16により操作する。

請求項（抜粋）：

プラズマにより処理されるウエハを絶縁膜との間に発生させた静電吸着力により支持する静電吸着装置において、絶縁膜の表面または裏面にSiO2膜を気相成長させたことを特徴とする静電吸着装置。

IPC (4件)：

H01L 21/302 , B23Q 3/15 , H01L 21/68 , H02N 13/00

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