特許
J-GLOBAL ID:200903090675174304

ヘキサン抽出分含量の減少したエチレンポリマーの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 倉内 基弘 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-214791
公開番号(公開出願番号):特開平7-292031
出願日: 1993年08月09日
公開日(公表日): 1995年11月07日
要約:
【要約】【目的】 (a)オルガノアルミニウム成分及び(b)四塩化チタンをマグネシウム金属により還元することによって調製した三塩化チタン成分を含むヘキサン抽出分含量の減少したエチレンポリマーを製造するのに適したチーグラー-ナッタタイプの触媒系を提供する。【構成】 四塩化チタンを還元して望ましくない副生物が存在せず、かつオルガノアルミニウム助触媒と共に用いてエチレンとそれより高級なアルファ-オレフィンとを共重合させてヘキサン抽出分含量の減少したエチレンコポリマーを製造することができる三塩化チタンを製造する改良方法であって、四塩化チタンを、四塩化チタンを還元して三塩化チタンにするのに要する化学量論量のマグネシウム金属で処理ことを含む方法。
請求項(抜粋):
(a)オルガノアルミニウム成分、及び(b)(i)四塩化チタンをマグネシウム金属により、四塩化チタンを活性水素を含有するラジカルの存在しない電子供与体溶媒中で四塩化チタンを還元して三塩化チタンにしかつ二塩化マグネシウムを生成するのに要する化学量論量のマグネシウム金属で処理することによって還元し;(ii)生成した溶液に更に二塩化マグネシウムを加えてMg/Ti比を増大させて1:1〜56:1の範囲にし;次いで(iii)溶液を適した担体に含浸させ、或は別法として適した充填剤を有する或は有しない溶液を噴霧乾燥させて触媒の離散した粒子を得ることによって調製された三塩化チタン成分を含む触媒系。
IPC (2件):
C08F 10/02 ,  C08F 4/652 MFG

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