特許

J-GLOBAL ID：200903090712529096

ガス添加剤を含む狭帯域エキシマレーザー

発明者： トーマス ホフマン ,  パラシュ ピー ダス ,  トシヒコ イシハラ ,  アレクサンダー アイ アーショフ
出願人/特許権者： サイマー インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-289794
公開番号（公開出願番号）：特開平11-191660
出願日： 1998年10月12日
公開日（公表日）： 1999年07月13日
要約：

【要約】【課題】 エキシマレーザー、より詳細にはガス添加剤を含む狭帯域エキシマレーザーを提供することを目的とする。【解決手段】 フッ素相容性物質で構成されたレーザーチャンバーと、(1) 2つの長い電極と、(2) 少なくとも一つの予備イオン化装置と、(3) 全圧を規定し、第一の希ガス、フッ素、バッファーガス、および100ppm未満の安定化添加剤で構成されるレーザーガスとを含み、該安定化添加剤が、10 ppm未満の酸素および、ある量の、該第一の希ガスよりも重質の、第二の希ガスから選択されることを特徴とする、エキシマレーザー。

請求項（抜粋）：

フッ素相容性物質で構成されたレーザーチャンバーと、(1) 2つの長い電極と、(2) 少なくとも一つの予備イオン化装置と、(3) 全圧を規定し、第一の希ガス、フッ素、バッファーガス、および100ppm未満の安定化添加剤で構成されるレーザーガスとを含み、該安定化添加剤が、10 ppm未満の酸素および、ある量の、該第一の希ガスよりも重質の、第二の希ガスから選択されることを特徴とする、エキシマレーザー。