特許
J-GLOBAL ID：200903090717005400
フオトマスク及び露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-132585
公開番号（公開出願番号）：特開平6-324474
出願日： 1993年05月10日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：
【要約】【目的】本発明は、露光方法において、画面合成によつて露光する際にその接続部に生じるコントラスト差が知覚され難くする。【構成】画面合成による露光の際の接続部43を互いに重複するように露光し、かつこの接続部43に配列された単位パターンが2度以上重複して露光されないように離散的かつ不規則に選択して露光する。これにより接続部に形成された単位パターンにコントラストの差があつてもコントラスト差をもつた単位パターンがまざりあつて接続部を知覚され難くできる。
請求項（抜粋）：
複数の単位パターンをほぼ規則的に配置したパターン領域を有するフオトマスクにおいて、前記複数の単位パターンは、前記パターン領域の周辺部の少なくとも一部分で離散的に、且つ前記パターン領域の中心から前記周辺部に向かうに従つて数が減少するように配置されていることを特徴とするフオトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G02F 1/136 500
, H01L 21/027
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 301 C
, H01L 21/30 311 L
