特許
J-GLOBAL ID：200903090727337355
厚膜無機複合酸化物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小松 秀岳 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-147454
公開番号（公開出願番号）：特開平5-116913
出願日： 1991年06月19日
公開日（公表日）： 1993年05月14日
要約：
【要約】【目的】 基板上に膜厚1μm以上の無機複合酸化物が形成されている厚膜無機複合酸化物及びその作成方法を提供すること。【構成】 素子を形成する基板上に膜厚1μm以上の無機複合酸化物が形成されていることを特徴とする厚膜無機複合酸化物。
請求項（抜粋）：
素子を形成する基板上に膜厚1μm以上の無機複合酸化物が形成されていることを特徴とする厚膜無機複合酸化物。
IPC (5件)：
C01B 13/32
, G02F 1/055 501
, H01B 3/00
, H01L 21/316
, H05K 3/28
