特許

J-GLOBAL ID：200903090730204200

マイクロ光学素子アレイの製造方法

発明者： 山崎 正明 ,  冨田 泰央
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-220946
公開番号（公開出願番号）：特開2000-052355
出願日： 1998年08月05日
公開日（公表日）： 2000年02月22日
要約：

【要約】【課題】短時間でマイクロ光学素子アレイを製造することができるマイクロ光学素子アレイの製造方法を提供する。【解決手段】電鋳法で作製した圧子を用いることにより、短時間でマイクロ光学素子アレイを製造できる。

請求項（抜粋）：

圧子を金型母材の表面に押圧して多数の圧痕を形成し、前記金型表面の圧痕形状を光学部材に転写して、多数の微小凸面を形成するマイクロ光学アレイの製造方法において、前記圧子の表面に微小凸面を複数有する電鋳圧子を用いることを特徴とするマイクロ光学素子アレイの製造方法。

IPC (5件)：

B29C 33/38 ,  B29C 33/42 ,  B29C 59/02 ,  G02B 3/00 ,  G02B 5/02

FI (5件)：

B29C 33/38 ,  B29C 33/42 ,  B29C 59/02 B ,  G02B 3/00 A ,  G02B 5/02 A

Fターム (12件)：

2H042BA03 ,  2H042BA15 ,  4F202CA09 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CD02 ,  4F209PA01 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC08 ,  4F209PN06 ,  4F209PQ14