特許
J-GLOBAL ID：200903090747788264
ハードマスクの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
若林 忠 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-220428
公開番号（公開出願番号）：特開平11-065095
出願日： 1997年08月15日
公開日（公表日）： 1999年03月05日
要約：
【要約】【課題】 応力及び応力分布を十分に低減したハードマスクの製造方法を提供する。【解決手段】 パターンを形成するときに導電性を持つ塗布型の薄膜を用いることを特徴とするハードマスクの製造方法。
請求項（抜粋）：
パターンを形成するときに導電性を持つ塗布型の薄膜を用いることを特徴とするハードマスクの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/16 A
, H01L 21/30 531 M
