特許
J-GLOBAL ID:200903090749766861
電子ビーム照射装置およびこの電子ビーム照射装置を用いた電子ビーム描画装置、走査型電子顕微鏡、点光源型X線照射装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
波多野 久 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-063925
公開番号(公開出願番号):特開2000-260370
出願日: 1999年03月10日
公開日(公表日): 2000年09月22日
要約:
【要約】【課題】高輝度で低エミタンスの電子ビームを引き出す。【解決手段】パルスレーザ装置32と、このパルスレーザ装置32からのパルスレーザ29の照射によりレーザプラズマ34を生成する金属ターゲット23と、発生したレーザプラズマ34から電子ビーム35を引き出して加速させる加速電極26とを備えている。
請求項(抜粋):
パルスレーザを出力するパルスレーザ装置と、このパルスレーザ装置からのパルスレーザの照射によりレーザプラズマを生成する金属ターゲットと、このレーザプラズマから電子ビームを引き出して加速させる加速電極とを備えたことを特徴とする電子ビーム照射装置。
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