特許
J-GLOBAL ID:200903090762929710

薄膜形成装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山口 巖
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-334522
公開番号(公開出願番号):特開平9-176855
出願日: 1995年12月22日
公開日(公表日): 1997年07月08日
要約:
【要約】【課題】搬送されるフィルム基板の収縮を大きくする大きな張力を加えることを避け、基板のたわみによる損傷を防止し、均一な基板温度テクスチャ化した太陽電池用の金属電極を形成する。【解決手段】送りロールから巻き取りロールに至る長い距離の中間に搬送速度に同期して回転駆動されるガイドロールを設置し、スリップが生じないように基板を搬送し、また基板加熱ヒータを幅方向に分割し、基板各部の温度測定結果をフィードバックして各ヒータ部分の加熱を制御する。
請求項(抜粋):
回転駆動される送りロールから巻き取りロールに向けて張力を加えながら搬送される可とう性基板を所定の温度に保持し、基板表面上に成膜する薄膜形成装置において、送りロールと巻き取りロールとの間に基板搬送速度に同期して回転駆動され、基板に接触するガイドロールを備えたことを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (5件):
C23C 14/56 ,  C08J 7/00 301 ,  H01L 21/205 ,  H01L 31/04 ,  H01L 49/02
FI (5件):
C23C 14/56 D ,  C08J 7/00 301 ,  H01L 21/205 ,  H01L 49/02 ,  H01L 31/04 T
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開平4-028872
  • 特開昭63-305142
  • 特開昭62-267469

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