特許

J-GLOBAL ID：200903090763445474

垂直二層パターンド媒体およびその製造方法

発明者： 竹野入 俊司 ,  酒井 泰志
出願人/特許権者： 富士電機株式会社
代理人 (1件)： 谷 義一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-377773
公開番号（公開出願番号）：特開2003-178431
出願日： 2001年12月11日
公開日（公表日）： 2003年06月27日
要約：

【要約】【課題】 各種磁気記録装置に搭載される垂直二層パターンド媒体において、低コスト化および高スループット化に加えて、媒体の記録分解能の向上、高記録密度化を実現する。【解決手段】 非磁性基体(例えば、ガラス基板)41上に軟磁性裏打ち層42を成膜した後(a)、PMMA等の熱可塑性樹脂の膜47をコーティングし(b)、スタンパ49を用いた加熱・加圧による成形で樹脂膜47に微細なパターンを転写後(c)、このパターンの凹部中に磁気記録層44を埋め込むことで、垂直二層パターンド媒体を製造する(d,e,f)。これにより、低コスト、高スループットでパターンド媒体が製造可能になるだけでなく、困難と考えられていた垂直二層媒体のパターンド媒体化が可能となる。

請求項（抜粋）：

垂直磁気記録媒体の磁気記録層が規則的で微細なパターンによって磁気的に分離されている垂直二層パターンド媒体の製造方法において、基板上に軟磁性層まで成膜した後、熱可塑性樹脂をコーティングする第1の工程と、加熱・加圧による成形で前記熱可塑性樹脂に微細なパターンを転写する第2の工程と、前記パターンの凹部中に磁気記録層を埋め込む第3の工程とを有することを特徴とする垂直二層パターンド媒体の製造方法。

IPC (5件)：

G11B 5/84 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/667 ,  G11B 5/738 ,  G11B 5/851

FI (5件)：

G11B 5/84 Z ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/667 ,  G11B 5/738 ,  G11B 5/851

Fターム (19件)：

5D006BB01 ,  5D006BB07 ,  5D006CA01 ,  5D006CA03 ,  5D006CA05 ,  5D006DA03 ,  5D006DA08 ,  5D006EA03 ,  5D006FA09 ,  5D112AA03 ,  5D112AA04 ,  5D112AA05 ,  5D112AA18 ,  5D112AA24 ,  5D112BA10 ,  5D112BB05 ,  5D112BD01 ,  5D112BD03 ,  5D112FA04