特許
J-GLOBAL ID：200903090769748290
サセプタの製造方法およびそのサセプタを用いた基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石戸 久子 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-054480
公開番号（公開出願番号）：特開2000-248362
出願日： 1999年03月02日
公開日（公表日）： 2000年09月12日
要約：
【要約】【課題】 表面コーティング後もサセプタに撓みを発生させないサセプタの製造方法およびその方法によるサセプタを使用した基板処理装置を提供する。【解決手段】 サセプタの表面コーティングの処理を行う際に、処理室の中でサセプタ10を支持ピン11,12,13で垂直に支持するとともに、サセプタの主表面側に倒れないように、倒れ防止ピン21,22によってサセプタを挟むように保持する。したがって、サセプタの自重は、サセプタの主表面に垂直に負荷されず、サセプタの主表面が延びる方向に負荷されるので、サセプタが自重で撓むことがなく、平坦度の優れたサセプタが製造される。この平坦度の優れたサセプタを基板処理装置に使用することによって、サセプタに保持されるウェハはスリップを起こさず、ウェハに対して膜厚および抵抗率が均一な成膜を行うことができる。
請求項（抜粋）：
サセプタに表面コーティングを行うサセプタ製造方法において、前記表面コーティングを行う際に、前記サセプタを垂直に保持することを特徴とするサセプタの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 16/44 H
, H01L 21/205
4K030BA37
, 4K030CA05
, 4K030GA02
, 4K030GA06
, 4K030KA47
, 5F045AB06
, 5F045BB01
, 5F045BB13
, 5F045EM02
, 5F045EM09
