特許

J-GLOBAL ID：200903090786801413

現像処理方法および現像処理装置

発明者： 立山 清久 ,  山崎 剛
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-047511
公開番号（公開出願番号）：特開2001-237170
出願日： 2000年02月24日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 酸化による現像液の劣化が生じ難い現像処理方法および現像処理装置を提供すること。【解決手段】 露光処理後の基板Gに現像液を供給して現像処理を行う方法であって、基板Gに現像液供給ノズル70から現像液を供給し、現像液を保持させて現像を進行させ、現像後、該現像液を基板から振り切り、振り切られた現像液を回収する工程を有し、前記現像液を供給する工程では不活性ガス供給ノズル71から基板Gの表面近傍に不活性ガスを供給し、さらに前記現像液を振り切る工程および/または回収する際に現像液に不活性ガスを供給する。

請求項（抜粋）：

露光処理後の基板に現像液を供給して現像処理を行う現像処理方法であって、基板に現像液を供給する際に、少なくとも基板の表面近傍部分に不活性ガスを供給することを特徴とする現像処理方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/30 501

FI (3件)：

G03F 7/30 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 C

Fターム (8件)：

2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096AA27 ,  2H096GA01 ,  2H096GA21 ,  2H096GA60 ,  5F046LA08 ,  5F046LA19

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-074413