特許
J-GLOBAL ID：200903090787974044
光転写用マスクおよびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-231758
公開番号（公開出願番号）：特開平6-083026
出願日： 1992年08月31日
公開日（公表日）： 1994年03月25日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、高精度の位相シフターを有する光転写用マスクを得ることを最も主要な特徴とする。【構成】 主表面を有する透明基板1の上に光遮蔽膜パターン2が設けられている。透明基板1の主表面中に、光遮蔽膜パターン2の間を通り、透明基板1を通過する光の位相を180°ずらすための不純物イオン注入領域300が設けられている。
請求項（抜粋）：
主表面を有する透明基板と、前記透明基板の上に設けられた光遮蔽膜パターンと、前記透明基板の主表面中に設けられ、前記光遮蔽膜パターンの間を通り、前記透明基板を通過する光の位相を180°ずらせるための不純物イオン注入領域と、を備えた光転写用マスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 301 P
, H01L 21/30 311 W
