特許
J-GLOBAL ID：200903090793226378
含フッ素2,4-ジオール類およびその誘導体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西 義之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-018862
公開番号（公開出願番号）：特開2005-239710
出願日： 2005年01月26日
公開日（公表日）： 2005年09月08日
要約：
【課題】工業的規模での製造に適した含フッ素2,4-ジオール類の製造方法を提供する。【解決手段】ヘキサフルオロアセトンとカルボニル化合物(アセトン等)とを、硫酸等の添加剤の存在下、反応させ、ヒドロキシケトンを得る。このヒドロキシケトンを、ルテニウム触媒の存在下、水素と接触させることにより、目的とする含フッ素2,4-ジオールを得る。本発明によれば、従来よりも穏和な条件で、収率よく、含フッ素2,4-ジオールを製造できる。また得られた含フッ素2,4-ジオールは、アクリル酸誘導体と反応させると、有用なモノマーである、含フッ素アクリル酸エステルに誘導できる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
一般式[3]で示されるヒドロキシケトン
IPC (7件)：
C07C29/145
, C07C31/42
, C07C35/48
, C07C35/52
, C07C67/08
, C07C67/14
, C07C69/653
C07C29/145
, C07C31/42
, C07C35/48
, C07C35/52
, C07C67/08
, C07C67/14
, C07C69/653
4H006AA02
, 4H006AB46
, 4H006AB84
, 4H006AC21
, 4H006AC41
, 4H006AC48
, 4H006BA23
, 4H006BA55
, 4H006BC10
, 4H006BC11
, 4H006BC34
, 4H006BD70
, 4H006BE20
, 4H006BM10
, 4H006BM71
, 4H006BN10
, 4H006FC22
, 4H006FC30
, 4H006FE10
, 4H006FE12
, 4H006KA06
, 4H006KA14
, 4H039CA60
, 4H039CB20
, 4H039CF30
