特許

J-GLOBAL ID：200903090795997533

ジケトピロロピロール誘導体の製造方法

発明者： シバクマー バサリンガッパ ヘンディ
出願人/特許権者： チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 岡部 正夫 (外11名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-147565
公開番号（公開出願番号）：特開平10-081687
出願日： 1997年06月05日
公開日（公表日）： 1998年03月31日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】ジケトピロロピロールをホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒドと反応させて2、5-ビス(ヒドロキシメチル)-3、6-ジアリールピロロピロール-1、4-ジオンを生成させ、これを単離するか、またはさらに反応させる1、4-ジケト-3、6-ピロロピロール誘導体の製造方法を提供する。【解決手段】1、4-ジケトピロロピロールをホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒドと反応させて、下記式(II)(式中、A1とA2とはアリール残基である)のビス(ヒドロキシメチル)ピロロピロール化合物を製造する方法。上記化合物は単離することもできるし、また、さらにワン・ポット合成によって反応させて、下記式(I)(式中、B1とB2とは有機残基である)の化合物を生成させることもできる。

請求項（抜粋）：

下記式(I)のジケトピロロピロール誘導体【化1】[式中、A1 とA2 とは同種または異種のアリール残基であり、B1 とB2 とは同種または異種の有機残基であり、このジケトピロロピロール誘導体は、ジケトピロロピロール誘導体1モル当り0乃至6モルの-SO3 M(ここにおいて、Mは水素または金属またはアンモニウム陽イオンである)を含有する]の製造方法において、第1工程において、式【化2】の1、4-ジケト-3、6-ジアリールピロロピロールをホルムアルデヒドまたはパラホルムアルデヒドと反応させて、式【化3】のスルホン化または非スルホン化中間体を生成させ、この中間体を第2工程において有機残基B1 およびB2 の前駆体と反応させて式(I)のジケトピロロピロール誘導体を生成させることを特徴とする方法。

IPC (2件)：

C07D487/04 137 ,  C09B 67/20

FI (2件)：

C07D487/04 137 ,  C09B 67/20 F