特許
J-GLOBAL ID：200903090802729922
塗布方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 和憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-047075
公開番号（公開出願番号）：特開2003-245595
出願日： 2002年02月22日
公開日（公表日）： 2003年09月02日
要約：
【要約】【課題】 塗布ダイとウェブとの隙間の計測を正確に行い、再現性の高い隙間調整をする。【解決手段】 上流側リップランドのランド長さを1mm、下流側リップランドのランド長さを50μmとしたスロットダイ10で、ウエブ13上に薄膜塗布を実施した。ウエブ13の走行方向上流側に光源21、下流側にCCDカメラ22を設置し、画像処理を実施してスロットダイ10とウェブ13との隙間Gaを計測し、スロットダイ10の位置調整を行った。その後、スロットダイ10を上にのせた移動台14を、塗布開始位置と退避位置の間を5回行き来させ、スロットダイ10の位置の変化を計測した。スロットダイ10は再現性良く位置設定され、隙間Gaの計測も簡便かつ正確に実施することができた。この位置設定により、液晶化合物層の塗膜は非常に良好に形成された。
請求項（抜粋）：
バックアップロールで支持されたウェブにダイを近接させて、前記ウェブに前記ダイから塗布液を塗布する塗布方法において、前記ダイに対してウェブ走行方向の上流側及び下流側で一方に配置される光源と、他方に配置される撮像手段とを用いて、前記光源により照明されたダイとウェブとの隙間を前記撮像手段により撮像し、この撮像結果に基づき前記隙間を計測することを特徴とする塗布方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
B05D 1/26 Z
, B05D 3/00 D
, B05D 3/00 F
4D075AC02
, 4D075AC05
, 4D075AC72
, 4D075CA24
, 4D075CA48
, 4D075CB03
, 4D075DA04
, 4D075DB01
, 4D075DB18
, 4D075DB36
, 4D075DB38
, 4D075DB48
, 4D075DB53
, 4D075DC24
, 4D075DC27
, 4D075EA07
, 4D075EA10
, 4D075EA45
