特許
J-GLOBAL ID：200903090821589341
ハーフトーン位相シフトマスクの欠陥修正方法およびハーフトーン位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-231312
公開番号（公開出願番号）：特開平9-080741
出願日： 1995年09月08日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：
【要約】【課題】ハーフトーン位相シフトマスクの白抜き欠陥の修正方法に関して、従来の欠陥修正方法の欠点を解消したうえで、なお且つその効果は確実に得られると共に工程は簡単であるようにし、特に密な配列のパターンに対して欠陥修正方法が転写パターンに与える影響を最小限に抑止かつ補正して精度の高い転写パターンを得られる技術を提供する。【解決手段】透過光に対する半透明性と位相反転性とを兼ね備えたパターンを透明基板上に設けてなるハーフトーン位相シフトマスクの前記パターンの白抜き欠陥を修正する場合に、前記白抜き欠陥を完全に覆っており、且つ前記パターンに隣接する複数の開口パターンのそれぞれ端の一部も部分的に覆っている形状に遮光膜を設けることによる。
請求項（抜粋）：
透過光に対する半透明性と位相反転性とを兼ね備えたパターンを透明基板上に設けてなるハーフトーン位相シフトマスクの該パターンの白抜き欠陥を修正する場合に、該白抜き欠陥を完全に覆っており、且つ該パターンに隣接する複数の開口パターンのそれぞれ端部も部分的に覆っている形状に遮光膜を設けることを特徴とするハーフトーン位相シフトマスクの欠陥修正方法。
IPC (2件)：
FI (5件)：
G03F 1/08 W
, G03F 1/08 A
, G03F 1/08 D
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
