特許
J-GLOBAL ID:200903090849271134
X線束形成装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 純之助 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-161499
公開番号(公開出願番号):特開平5-013193
出願日: 1991年07月02日
公開日(公表日): 1993年01月22日
要約:
【要約】【目的】微細で輝度の高いX線束を、シンクロトロン放射光施設のような大きな場所を要しないで、得ることのできるX線束形成装置を実現することを目的とする。【構成】電子線発生部(6)を有する真空槽(2)にベリリウム膜から成るX線取り出し窓(3)を、このベリリウム膜の槽内側の面にX線発生金属膜(4)を設け、この金属膜(4)に電子線を絞って照射し、発生したX線を窓(3)から槽外に取り出し、X線収束系(1)の一方端に入射させ、他方端からX線束(9)を得る構成とする。【効果】高電圧、大電流の電子線をX線発生金属膜に照射でき、かつ、発生したX線のほとんどがX線収束系に入射するため輝度の高い微細X線束が形成できる。また、X線発生部が静止しているため、機械振動が無い安定したX線束を形成できる。
請求項(抜粋):
一方端から入射したX線を内壁表面で反射または回折させることで収束して他方端から出射する筒状のX線収束系と、ベリリウム膜よりなるX線取り出し窓を有する真空槽と、上記ベリリウム膜の真空槽内側表面に堆積されたX線発生金属膜と、上記真空槽内に設置された、電子線発生部及び発生した電子線を絞って上記X線発生金属膜に照射する電子レンズとを備えて、上記X線発生金属膜で発生したX線を上記ベリリウム膜を透過させて真空槽外に取り出して上記X線収束系の中を通過させることによりX線束を得ることを特徴とするX線束形成装置。
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