特許

J-GLOBAL ID：200903090849315700

ポリオキシメチレン組成物

発明者： 杉山 訓之 ,  長谷 寛之
出願人/特許権者： ポリプラスチックス株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-158345
公開番号（公開出願番号）：特開平10-001594
出願日： 1996年06月19日
公開日（公表日）： 1998年01月06日
要約：

【要約】【課題】 長時間の連続成形に対しても金型の汚れが少なく、しかも長時間の成形機シリンダー内での溶融滞留においても樹脂組成物の変色度が小さく、操作性が改善され、更にギ酸発生量も少ない、ポリオキシメチレン組成物を提供する。【解決手段】 ポリオキシメチレンを基準として、(a) 立体障害性フェノール系酸化防止剤0.01〜3重量%、(b) ポリアミド0.001 〜0.3 重量%、(c) マグネシウム又はカルシウムの酸化物又は炭酸塩から選ばれる1種以上の金属含有化合物0.001 〜0.5 重量%、(d) ホウ酸化合物 0.001〜0.5 重量%を配合する。

請求項（抜粋）：

ポリオキシメチレンを基準として、(a) 立体障害性フェノール系酸化防止剤0.01〜3重量%、(b) ポリアミド0.001 〜0.3 重量%、(c) マグネシウム又はカルシウムの酸化物又は炭酸塩から選ばれる1種以上の金属含有化合物0.001 〜0.5 重量%、(d) ホウ酸化合物 0.001〜0.5 重量%を配合してなるポリオキシメチレン組成物。

IPC (9件)：

C08L 59/00 LMP ,  C08L 59/00 LMM ,  C08L 59/00 LMN ,  C08K 13/02 ,  C08L 59/00 ,  C08L 77:00 ,  C08K 3:18 ,  C08K 3:38 ,  C08K 5:13

FI (4件)：

C08L 59/00 LMP ,  C08L 59/00 LMM ,  C08L 59/00 LMN ,  C08K 13/02

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭53-078256
  
• ポリアセタール成形体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-320467   出願人：ポリプラスチックス株式会社
• 特開平3-290470