特許
J-GLOBAL ID：200903090853457803
薄膜の製造方法及び製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-051112
公開番号（公開出願番号）：特開平5-255839
出願日： 1992年03月10日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：
【要約】【目的】 蒸着源溶湯の突沸によるスプラッシュを防止し、薄膜形成における歩留まり、生産性の向上を実現する。【構成】 覆い壁33で囲まれた還元ガス雰囲気空間Cで、供給材料22を溶融し領域Aに滴下し供給しつつ、蒸発領域Bからの蒸気を基板に蒸着するものである。【効果】 蒸着材料の脱ガスを加熱溶融段階の還元により高効率で行えるため、領域Bでの突沸を防止でき、蒸着膜上にスプラッシュが発生する事がない。
請求項（抜粋）：
蒸着材料を加熱溶融し蒸発させて基板に薄膜を形成する際に、坩堝内の蒸着材料の溶湯に、供給蒸着材料を還元雰囲気中で加熱溶融し前記供給蒸着材料中の脱ガスを行いつつ供給し、前記溶湯の蒸気を基板に蒸着することを特徴とする薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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