特許
J-GLOBAL ID：200903090858962808
レーザ吸収剤塗布装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-211766
公開番号（公開出願番号）：特開平7-060475
出願日： 1993年08月26日
公開日（公表日）： 1995年03月07日
要約：
【要約】【目的】本発明の主な目的は、レーザ吸収剤をワークの周方向になるべく均等な厚さに塗布できるようにすることにある。【構成】レーザ吸収剤塗布装置20に設けられたノズルユニット22は、ワーク内面12aに対向する噴射ノズル21を有しており、回転駆動機構23によって回転させることができるようにしてある。また、レーザ吸収剤を噴射ノズル21に供給するレーザ吸収剤供給機構35と、噴射制御弁36と、噴射制御弁36を制御するコントローラ25が設けられている。コントローラ25は、ノズルユニット22が回転する際にエンコーダ31によって検出される回転位置信号を入力するとともに、この回転位置に関連してワーク内面12aの周方向に所定ピッチでレーザ吸収剤を噴出するように噴射制御弁36の駆動タイミングを制御しつつ1周目の塗布を行い、2周目の塗布を行う際には噴射制御弁36の駆動タイミングを1周目に対し半ピッチ分ずらすようにしている。
請求項（抜粋）：
円筒状のワーク内面にレーザ焼入れを行う際にワーク内面にレーザ吸収剤を塗布するためのレーザ吸収剤塗布装置であって、ワーク内面に対向する噴射ノズルを有しかつワーク内面の円周方向に回転可能なノズルユニットと、上記ノズルユニットを回転させるモータおよび回転位置検出手段を有する回転駆動機構と、上記噴射ノズルにレーザ吸収剤を供給するレーザ吸収剤供給機構と、上記レーザ吸収剤供給機構によって上記噴射ノズルに供給されるレーザ吸収剤を開弁時に上記噴射ノズルから噴射させかつ閉弁時にレーザ吸収剤の噴射を止める噴射制御弁と、上記ノズルユニットの回転時に上記回転位置検出手段によって検出される回転位置信号を入力するとともにこの回転位置に関連してワーク内面の周方向に所定ピッチでレーザ吸収剤を噴出するように上記噴射制御弁の駆動タイミングを制御しつつ1周目の塗布を行いかつ2周目の塗布を行う際には上記噴射制御弁の駆動タイミングを1周目に対し半ピッチ分ずらしてバルブ駆動信号を送出するコントローラと、を具備したことを特徴とするレーザ吸収剤塗布装置。
IPC (4件)：
B23K 26/18
, B05B 12/02
, B23K 26/00
, C21D 1/09
