特許
J-GLOBAL ID:200903090881565816

メタノールの製造法およびその装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-059203
公開番号(公開出願番号):特開2002-226870
出願日: 2001年01月29日
公開日(公表日): 2002年08月14日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 安価な水及び炭素材を原料として、低コストでメタノールの大量生産を可能とするメタノール合成法およびその合成装置を提供する。【解決手段】 アークプラズマリアクタAPRで多量の微小アークプラズマの存在下で水と炭素材とを接触反応させて合成ガスを生成し、第1熱交換器H1で冷却した後、第1気水分離器S1で合成ガスSGと水分とを分離し、合成ガスをメタノール合成槽MRに導入してメタノールを合成する。
請求項(抜粋):
原料水供給口と合成ガス取出口とを有する絶縁ケーシングと、絶縁ケーシング内に形成されたアークプラズマ反応室と、アークプラズマ反応室に配置されたアーク電極とを備えたアークプラズマリアクタを準備する工程と;アークプラズマ反応室内に固形状炭素材を充填して固形状炭素材の隙間に微小アーク通路を形成する工程と;アーク電極にアーク発生電力を供給して微小アーク通路内にアークプラズマを発生させる工程と;原料水供給口から原料水または水蒸気を微小アーク通路内に通過させてアークプラズマの存在下で水蒸気と炭素材の炭素とを接触反応させ、水素および一酸化炭素を含む合成ガスを生成する工程と;合成ガス取出口から合成ガスを取出して合成ガスを冷却する工程と;メタノール合成反応槽に合成ガスを導入してメタノール触媒と接触させてメタノールを合成する工程と;からなるメタノールの製造法。
IPC (3件):
C10J 3/02 ,  C07C 29/151 ,  C07C 31/04
FI (8件):
C10J 3/02 L ,  C10J 3/02 B ,  C10J 3/02 C ,  C10J 3/02 H ,  C10J 3/02 J ,  C10J 3/02 M ,  C07C 29/151 ,  C07C 31/04
Fターム (9件):
4H006AA02 ,  4H006AC41 ,  4H006BA05 ,  4H006BA07 ,  4H006BA09 ,  4H006BA30 ,  4H006BD70 ,  4H006BE20 ,  4H006BE40

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