特許
J-GLOBAL ID：200903090883719039

求電子反応による芳香族化合物の製造方法及び芳香族化合物

発明者：
大谷 隆

大谷 隆 について

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高石 日出男

高石 日出男 について

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津幡 健治

津幡 健治 について

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濱口 洋

濱口 洋 について


出願人/特許権者：
日本農薬株式会社

日本農薬株式会社 について


代理人 (1件)： 萼 経夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-168720
公開番号（公開出願番号）：特開平6-166657
出願日： 1993年06月15日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：
【要約】【構成】 式(II)の化合物と求電子試薬とを反応させることを特徴とする(I)の芳香族化合物の製造方法及び芳香族化合物【化1】(式中、X1、X2=ハロゲン、R=-C(R1)(R2)Z (R1、R2=H、低級アルキル記、Z=シアノ、-CO-OR3 (R3=H、低級アルキル基)、-CO-N(R4)R5 (R4 、R5=H、低級アルキル基、R4とR5は一緒になってアルキレン基)、Y=ニトロ、ハロゲン、ハロアルキル等。)【効果】 芳香族環上に選択的に置換基を導入できる。
請求項（抜粋）：
一般式(II)【化1】〔式中、X1 又はX2 は同一又は異なっても良く、ハロゲン原子を示し、Rは【化2】(式中、R1 及びR2 は同一又は異なっても良く、水素原子又は低級アルキル基を示し、Zはシアノ基、 -CO-OR3(式中、R3 は水素原子又は低級アルキル基を示す。)又は -CO-N(R4)R5(式中、R4 及びR5 は同一又は異なっても良く、水素原子又は低級アルキル基を示し、R4 及びR5 は一緒になってアルキレン基を示すこともできる。)を示す。)を示す。〕で表される化合物と求電子試薬を反応させることを特徴とする一般式(I)【化3】〔式中、X1 、X2 及びRは前記に同じくし、Yはニトロ基、ハロゲン原子、ハロアルキル基又は【化4】(式中、R6 、R7 及びR8 は同一又は異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子又はシアノ基を示す。)を示す。〕で表される芳香族化合物の製造方法。
IPC (13件)：
C07C 59/64 ,  C07C 51/363 ,  C07C 51/367 ,  C07C 59/84 ,  C07C 67/307 ,  C07C 69/708 ,  C07C205/56 ,  C07C231/06 ,  C07C231/12 ,  C07C235/20 ,  C07C253/30 ,  C07C255/13 ,  C07C255/19
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (2件)

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