特許

J-GLOBAL ID：200903090888937514

露光装置、露光方法およびデバイス製造方法

発明者： 村山 正幸
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-140796
公開番号（公開出願番号）：特開2000-331914
出願日： 1999年05月20日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】 送光系や照明光学系の内部に設けられる光学部材や他の部品の汚染を防止し、露光装置の光学性能の低下を防止するとともに装置自体の耐久性を向上させる。【解決手段】 ウェハWの位置合わせやウェハWへのパターン像の転写のための光路間の少なくとも一部を含む小空間S1,S2,S3内に窒素ガスを供給する窒素ガス供給装置8を備える露光装置について、小空間S1,S2,S3内に配置された不純物発生源近傍の窒素ガスを小空間S1,S2,S3内から排出するための排出路9a〜9cを形成し、さらに小空間S1,S2,S3から排出された窒素ガス中の不純物をフィルタ14で除去したうえで再度小空間S1,S2,S3内に供給する。

請求項（抜粋）：

基板の位置合わせや基板へのパターン像の転写のための光路内の少なくとも一部の空間内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給手段とを備える露光装置であって、前記空間内に配置された不純物発生源近傍の不活性ガスを前記空間内から排出するための不活性ガス排出路が形成されることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 515 D ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 503 G ,  H01L 21/30 516 F

Fターム (7件)：

5F046AA22 ,  5F046CA04 ,  5F046CB20 ,  5F046DA26 ,  5F046DA27 ,  5F046DB02 ,  5F046DB03