特許

J-GLOBAL ID：200903090889035395

反射光学素子及びファブリー・ペロー・エタロン及び光源レーザー装置及び露光装置及びデバイス製造方法

発明者： ▲鶴▼田 匡夫 ,  大和 壮一 ,  市原 裕 ,  平山 義一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-292856
公開番号（公開出願番号）：特開2001-174629
出願日： 2000年09月26日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】極めて狭帯域の波長において有効な反射光学素子、ファブリー・ペロー・エタロン、出力波長が極めて狭帯域の光源レーザー装置、高解像度の露光装置、高集積度のデバイスを製造可能なデバイスの製造方法を提供する。【課題の解決手段】複数の基材を、それぞれの間に空隙を設けて光軸に沿って配置し、狭い波長帯域において高い反射率を持つミラーを形成する反射光学素子、該反射光学素子を、それぞれの間に空隙からなる共振部を設けて、光軸に沿って配置したファブリー・ペロー・エタロン、該反射光学素子または該ファブリー・ペロー・エタロンを、光源レーザー装置の内部または外部に配置した光源レーザー装置、該光源レーザー装置を搭載した露光装置、該露光装置を使用したデバイス製造方法を提供する。

請求項（抜粋）：

【請求項1】複数の透明な基材を、それぞれの間に空隙を設けて光軸に沿って配置し、前記複数の基材それぞれの表面において生じる反射光の、繰り返し反射干渉を利用することにより、狭い波長帯域において高い反射率を持つミラーを形成することを特徴とする反射光学素子。

IPC (3件)：

G02B 5/28 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G02B 5/28 ,  G03F 7/20 502 ,  H01L 21/30 515 B ,  H01L 21/30 527

Fターム (21件)：

2H048GA04 ,  2H048GA09 ,  2H048GA13 ,  2H048GA26 ,  2H048GA34 ,  2H048GA35 ,  2H048GA52 ,  2H048GA57 ,  2H048GA60 ,  2H048GA61 ,  2H097AA03 ,  2H097CA13 ,  2H097LA10 ,  5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046CA04 ,  5F046CA08 ,  5F046CB01 ,  5F046CB02 ,  5F046CB22 ,  5F046DA01