特許

J-GLOBAL ID：200903090902902605

電子ビーム描画パターン形成方法

発明者： 柴田 英則 ,  豊永 昌彦
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-102286
公開番号（公開出願番号）：特開平11-297603
出願日： 1998年04月14日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：

【要約】【課題】 多角形図形を各々電子ビーム露光装置で描画可能な複数の基本図形に分割するための図形分割工程を有する電子ビーム描画パターン形成方法において、図形分割結果が高速に得られるようにする。【解決手段】 まず図形分類工程11にて、入力図形群を基本図形とその他の多角形図形とに分類する。ここで多角形図形に分類された入力図形のみが、次の図形分割方向予測工程12へ送られる。図形分割方向予測工程12では、微小幅を持った基本図形の発生を回避できるように、入力された多角形図形の辺の長さや頂点位置などの形状情報から、該多角形図形をx座標軸方向の分割線で水平分割すればよいのか、又はy座標軸方向の分割線で垂直分割すればよいのかを予測する。次の図形分割実行工程13では、該予測の結果に従って多角形図形を複数の基本図形に水平又は垂直分割する。

請求項（抜粋）：

多角形図形を各々電子ビーム露光装置で描画可能な複数の基本図形に分割するための図形分割工程を有する電子ビーム描画パターン形成方法であって、前記図形分割工程は、入力された多角形図形の形状から、該多角形図形をいずれの方向に分割すればよいかを予測するための図形分割方向予測工程と、前記図形分割方向予測工程の予測結果に従って前記多角形図形を複数の基本図形に分割するための図形分割実行工程とを備えたことを特徴とする電子ビーム描画パターン形成方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 541 M ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521