特許
J-GLOBAL ID:200903090906162550
シリカ粒子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中村 静男 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-007020
公開番号(公開出願番号):特開平10-203820
出願日: 1997年01月17日
公開日(公表日): 1998年08月04日
要約:
【要約】【課題】 粒径精度に優れ、かつ粒径分布が単分散状であって、特に平均粒子径が2μm以上のシリカ粒子を、比較的短時間に効率よく製造する方法を提供する。【解決手段】 シリカ種粒子をアルコールとアンモニア水との混合溶媒に分散させた分散液に、シリコンアルコキシドを添加してこれを加水分解させ、シリカ種粒子の粒径を成長させるに当たり、(1)最初に副生する微小シリカ粒子の平均粒子径をシリカ種粒子の平均粒子径の90%以下とする、あるいは(2)シリカ種粒子として、平均粒径2μm以上のものを用いる、シリカ粒子の製造方法である。
請求項(抜粋):
シリカ種粒子をアルコールとアンモニア水との混合溶媒に分散させてなる分散液にシリコンアルコキシドを添加してこれを加水分解させ、シリカ種粒子の粒径を成長させるシリカ粒子の製造方法において、最初に副生する微小シリカ粒子の平均粒子径がシリカ種粒子の平均粒子径の90%以下の時点で新たな成長操作を行なうことを特徴とするシリカ粒子の製造方法。
引用特許: