特許

J-GLOBAL ID：200903090912460341

含ケイ素高分子重合体の製造方法

発明者： 内丸 祐子 ,  田中 正人
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-269853
公開番号（公開出願番号）：特開平8-134218
出願日： 1994年11月02日
公開日（公表日）： 1996年05月28日
要約：

【要約】【構成】 環構成元素がSi又はSiとCとから成り、かつSi上にフッ素原子を有しないSi-Si結合を環構造中に少なくとも1個有する四員環又は五員環の環状化合物を、その等モル以下の量のSi上にフッ素原子を少なくとも1個有する鎖状ジシラン類及びパラジウム錯体又は白金錯体の存在下に反応させて、主鎖構成元素がSi又はSiとCとから成り、かつ主鎖中にSi-Si結合を有する高分子量の含ケイ素高分子重合体を製造する方法である。【効果】 フォトレジスト材料やプレセラミックス材料として、あるいは導電性材料用の素材などとして有用な、主鎖構成元素がSi又はSiとCとから成り、かつ主鎖中にSi-Si結合を有する含ケイ素高分子重合体を、効率よく工業的有利に製造することができる。

請求項（抜粋）：

(A)環構成元素がケイ素原子又はケイ素原子と炭素原子とから成り、かつケイ素原子に結合したフッ素原子を有しないSi-Si結合を環構造中に少なくとも1個有する四員環又は五員環の環状化合物を、(B)この環状化合物に対し等モル以下の量の、ケイ素原子に結合したフッ素原子を少なくとも1個有する鎖状ジシラン類及び(C)パラジウム錯体又は白金錯体の存在下に反応させることを特徴とする、主鎖構成元素がケイ素原子又はケイ素原子と炭素原子とから成り、かつ主鎖中にSi-Si結合を有する高分子量の含ケイ素高分子重合体の製造方法。