特許
J-GLOBAL ID：200903090941029501
蛍光X線分析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 修司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-273158
公開番号（公開出願番号）：特開平11-174007
出願日： 1998年09月28日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 試料とX線源間の距離のばらつきによる測定誤差と、測定中の真空度の変化による測定誤差の少なくとも一方を、簡単な構成で短時間に除去できる蛍光X線分析装置を提供する。【解決手段】 測定に用いる絞りブロック15に設けたスリットシステム14等を利用して試料1とX線源4間の距離を一定に調整する高さ調整手段18、および前記絞りブロック15に設けたモニター試料12等を利用して、モニター試料12の測定強度に基づいて分析対象の試料1の測定強度の測定中の真空度を推定して補正する補正手段20等を備える。
請求項（抜粋）：
試料が固定される試料台と、試料に1次X線を照射するX線源と、試料台のX線源に対する高さを調整する高さ調整器と、試料から発生する2次X線の強度を測定する検出手段と、1次X線および検出手段に入射する2次X線を通過させるスリットシステムと、試料への1次X線の照射領域を制限する絞りとを有する絞りブロックと、その絞りブロックを、前記スリットシステムまたは絞りがX線源の前方に位置するように、選択的に位置させる選択手段と、選択手段によりX線源の前方にスリットシステムを位置させ、X線源から試料に1次X線を照射させ、検出手段に試料から発生する2次X線の強度を測定させながら、高さ調整器により、試料台のX線源に対する高さを変化させ、2次X線の測定強度が最大になる高さに調整する高さ調整手段とを備えた蛍光X線分析装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 23/223
, G21K 5/02 X
